真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。
用于真空離子蒸鍍的設備
真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍）是在真空條件下，加熱蒸發容器中待蒸發的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入社到襯底或基底表面，凝結成固態薄膜的方法。
蒸鍍金屬（選Single Pulse模式）
1.將要蒸發的基底材料洗干凈放在蒸發頭下面的基板上。
2.將要蒸發的金屬用鑷子團成球形放入鎢籃中。
3.將蒸發頭裝在儀器蓋上，插好電線，打開儀器電源開關。將氮氣鋼瓶的開關旋開，使流量控制在0.035Mpa左右。
4.按“ENTER”按鈕設置儀器參數。如果選擇“Single Pulse”模式，其余參數不需要設置，值設置除氣時間，在0～60秒內調節。
5.然后按“START”鍵儀器開始抽真空。
6.等儀器進入泵保持狀態，真空度達到9×10-5mbar是，可進行下一步操作。由于鋁比較容易氧化，蒸鋁時至少要在泵保持進行30分鐘之后才能進行下一步操作。
7.按“START”鍵。
8.按“△”鍵儀器開始除氣。主要除去要蒸發的金屬材料表面的一些污垢等。操作時要小心的向右旋下面的黑色按鈕，當“Current”顯示為8是要通知旋動，稍等片刻鎢籃會發紅，開始除氣。除氣持續10秒左右然后將旋鈕向左旋到底。
9.然后按“▽”鍵儀器進入蒸發狀態。
10.蒸鍍完畢后，按“STOP”鍵，停止抽真空，打開蓋子取出樣品，關閉主機電源盒氣源。 |
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