我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶(hù)群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無(wú)油高真空系統(tǒng),機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì),整體布局緊湊合理,充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀(guān)觀(guān)察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等,特別適合太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。
主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì):
★ 玻璃鐘罩真空腔室,可直觀(guān)的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀(guān)察;
★ 復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì);
★ 專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
★ 襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
★ 可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★ 7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調(diào)節(jié)電流,達(dá)到控制功率效果
★ 具有記憶儲(chǔ)存功能,直接調(diào)出已儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)進(jìn)行鍍膜達(dá)到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺(tái)擋板,可手動(dòng)調(diào)節(jié)或自動(dòng)調(diào)節(jié)擋板,及時(shí)遮擋樣品,保證樣品效果 |