主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝等。
TN-1200X-80型高真空CVD管式爐
該儀器是一個三溫區真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業等試驗和小批量生產之用。主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝等。
儀器的控制系統采用原裝進口產品,具有操作容易,安全可靠,控溫精度高(專家PID控制),保溫效果好,溫度范圍大,爐膛溫度均勻性高,溫區多,可通氣泵,抽真空等特點。
1 產品名稱 高真空CVD管式爐
2 產品型號 TN-1200X-80
3 加熱元件 電阻絲
4 加熱區長度 220mm
5 恒溫區長度 100mm
6 工作溫度 ≤1100℃
7 *高溫度 1200℃
8 控溫方式 智能化30段可編程控制
9 恒溫精度 ±1℃
10 爐門結構 開啟式
11 工作電源 Ac220v 50Hz/60Hz
12 額定功率 2.5kw
13 外形尺寸 550x380x520mm |