廣泛用于各種反應溫度在1600℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
TN-D1700型單溫區三通道混氣CVD系統
儀器采用雙層亮體結構,并帶有分冷,使得殼體表面的溫度小于55℃。保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維可以環保節能,減少熱量的損失內爐膛表面涂有進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。
技術參數;
1 產品名稱 單溫區三通道混氣CVD系統
2 產品型號 TN-D1700
3 加熱元件 1800高純度硅鉬棒
4 *大升溫速度 5℃/min
5 *大降溫速度 5℃/min
6 加熱區長 455mm
7 恒溫區長 150mm
8 溫控系統 一個精密溫度控制器PID方式控制,通過可控硅 SCR可設置30段升降溫程序
9 控溫精度 ±1℃
10 工作電源 Ac220v 50Hz 單向 |