廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
TN-D3F型1200℃管式爐CVD系統
該儀器可廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
技術參數:
1 產品名稱 1200℃管式爐CVD系統
2 產品型號 TN-D3F型
3 顯示模式 高亮數碼管顯示(LED)
4 爐膛模式 封閉式
5 爐膛材料 進口纖維
6 加熱元件 進口合金加熱絲
7 極限溫度 1200℃
8 工作溫度 ≤1150℃
9 升溫速率 ≤20℃(建議:10℃/min)
10 加熱溫區 單溫區
11 溫區長度 200mm
12 恒溫區長 100mm
13 爐管材料 高純石英管
14 密封方式 真空法蘭
15 氣密性 真空法蘭和剛玉爐管的氣密性*高可達4.03×10-3Pa
16 測溫元件 K型熱電偶
17 控溫精度 ±1℃
18 氣體通道 可連接3種氣源
19 電源 220v 50Hz~60Hz |