硒化鉍(Bi2Se3 )靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料
【參數(shù)說明】
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價！！ 
【產(chǎn)品介紹】
硒化鉍斜方六面體晶結(jié)構(gòu)。密度6.82g/cm3。熔點710℃。不溶于堿，易為濃酸、王水所分解。由硒和鉍直接反應(yīng)或氧化鉍和硒化氫作用制取，為半導(dǎo)體材料和溫差電材料。
中文名 硒化鉍 熔點 710°C
化學(xué)式 Bi2Se3  密度 6.82 g/cm3
【關(guān)于我們】
服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。 |
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