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寧夏權(quán)知府企業(yè)管理咨詢有限公司
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| 電學(xué)領(lǐng)域?qū)?申請專*技術(shù)挖掘 |
電學(xué)領(lǐng)域申請專利包含電子產(chǎn)品和電路設(shè)計，其專利涉及的技術(shù)較廣，從材料到結(jié)構(gòu)再到控制方法，都可能產(chǎn)生專利點(diǎn)。電學(xué)領(lǐng)域內(nèi)，可以申請專利的發(fā)明創(chuàng)造包括
(1)新的電子元件或電子元件的改進(jìn)，可能涉及元件材料及結(jié)構(gòu);
(2)新的功能模塊或功能模塊的改進(jìn)，包括電路設(shè)計、模塊物理結(jié)構(gòu)設(shè)計等;
(3)新的設(shè)備、裝置或設(shè)備、裝置的改進(jìn)，最常見的是通過增減模塊或者改變模塊的連接關(guān)系來實(shí)現(xiàn)新的功能或者改進(jìn)呢性能;
(4)新的系統(tǒng)或系統(tǒng)的改進(jìn)，包括系統(tǒng)構(gòu)架設(shè)計、系統(tǒng)中設(shè)備的增減、設(shè)備連接關(guān)系的改變等;
(5)針對主設(shè)備或者主系統(tǒng)的配套設(shè)備或配套系統(tǒng)，出于一些專用目的，如散熱、除塵等;
(6)針對具體電子設(shè)備或系統(tǒng)的新的控制方法或控制方法的改進(jìn);
(7)電子產(chǎn)品的新生產(chǎn)工藝或生產(chǎn)工藝的改進(jìn)，包括新的制造設(shè)備或制造設(shè)備的改進(jìn);
(8)電子產(chǎn)品的新測試設(shè)備、新測試方法或測試設(shè)備、測試方法的改進(jìn)。
電學(xué)領(lǐng)域申請專利的資料應(yīng)具備以下內(nèi)容
技術(shù)/產(chǎn)品創(chuàng)新主要基于產(chǎn)品、設(shè)備的構(gòu)造或生產(chǎn)工藝、控制方法的改進(jìn)，則申請時應(yīng)考慮提供：
1、已有技術(shù)/產(chǎn)品的不足：即說明與本專利的內(nèi)容最相似的技術(shù)/產(chǎn)品，需要說明已有電路、產(chǎn)品/設(shè)備的主要結(jié)構(gòu)、原理、實(shí)用效果，或已有控制方法的步驟、原理、效果，尤其指出與本專利相比，原有技術(shù)存在的缺點(diǎn)或不足之處。如有引用文獻(xiàn)，需要說明出處;如有參考產(chǎn)品，指出其型號、廠家。對原有技術(shù)或電路的介紹盡可能詳細(xì)，可附結(jié)構(gòu)原理圖、電路圖或流程圖。
2、本專利的內(nèi)容：應(yīng)說明本專利達(dá)到目的或解決問題的技術(shù)手段。包括產(chǎn)品、電路的組成、結(jié)構(gòu)，尤其說明各組成部分之間的相互關(guān)系，例如連接關(guān)系、被作用的工作電流或信號的走向。對于方法，應(yīng)當(dāng)說明本方法的主要思路、步驟。寫明本專利的工作原理，本專利與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別點(diǎn)。
3、本專利的效果：有益效果可以由工作性能的提高，制作成本、能量損耗的減少，產(chǎn)率和精度的提高，穩(wěn)定性的增加，操作、控制、使用的簡便，以及其他有用性能的出現(xiàn)等方面反映出來。
4、附圖與說明：產(chǎn)品構(gòu)造或裝置或設(shè)備的圖解，圖應(yīng)以電子制圖或流程圖的標(biāo)準(zhǔn)繪制，而非掃描圖。使專利工作人員可直接在附圖上編輯修改，實(shí)用新型申請必須帶附圖。
5、本專利的具體實(shí)施例：對照附圖，說明本專利的具體實(shí)施方式，必須有詳細(xì)的工作機(jī)理，包括附圖中各具體器件功能介紹、及流程圖中具體各個流程的功能。*提供相應(yīng)的技術(shù)參數(shù)、數(shù)據(jù)來具體說明有益效果，可同時提供原有技術(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)進(jìn)行對比。
電學(xué)領(lǐng)域申請專利注意事項
電路方面的發(fā)明創(chuàng)造，可以是一個 |
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