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西尼特（北京）電爐有限公司

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西尼特（北京）電爐有限公司

聯系人：龐通先生 (銷售經理)

電話：400-668-6260

手機：18610138965

產品目錄

真空化學氣相沉積爐

詳細說明

    ※應用領域：

CNT生產的CVD（真空化學氣相沉積爐）是一種用于在基片上生成高質量TiC、SiC、SiO2、Si3N4 專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～1200℃可調 ) ，它已成為機械制造工業、冶金工業、光學工業、半導體工業等領域微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。

※產品描述：

CNT公司CVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統，電源，生長機體載體及溫控系統，獨立排氣和生長壓力調節系統，冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。

※技術指標：

參數名稱單   位配置

沉積類型 TiC、SiC、SiO2、α-Si等

電   源射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器

加熱系統平板式雙反應室系統，帶加溫和勻氣系統

工作溫度 ℃ 100~1100℃

基片臺尺寸 (φ×H)mm 1英寸、二英寸、三英寸、四英寸、6英寸、8英寸

基片臺轉速轉速0-20RPM

控溫精度 ℃ ±1

極限真空 pa 8.0×10-5

密封系統磁流體密封

水冷、氣路系統冷卻水循環機、無噪聲氣泵

報警及保護對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施

真空系統

（選配）真空系列單級機械泵、擴散泵機組、分子泵

工作腔體不銹鋼

氣氛系統浮子流量計、進口、國產質量流量計

記錄裝置進口、國產無紙記錄儀

備注：西尼特可根據閣下要求提供各種非標產品的設計制造，歡迎來函、來電咨詢！

      24小時熱線：400-668-6260   18610138965    Fax:010-51418223

  cntdl@sina.com                     http://www.cimitdl.com