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石久高研金屬材料有限公司
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| 鋁靶|高純鋁靶99.999|鋁靶供應商|找高純鋁*選石久高研金屬材料有限 |
化學符號：Al
外 觀：銀白色
原 子 量：26.98154
蒸發溫度：1220℃
密 度：2.7g/cm3
熔 點：660℃
沸 點：2467℃
汽化溫度：1082℃
電 阻 率/μΩ•cm:2.66
電阻溫度系數/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：氫氧化鈉，堿類，稀硝酸
蒸發方式：鎢絲或鉬舟
蒸發源材料（絲、片）:W
坩 堝:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能：鋁膜從紫外區到紅外區具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對基地的附著力比較強，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護，所以鋁膜的機械強度和化學穩定性都比較好。通常真 空蒸發制備的鋁膜呈銀灰色，但有時也呈黑色。蒸發源為電子槍，基地為氧化硅薄膜（100nm厚），蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好；加工性能好，可加工成任意形狀；
波長/nm 折射率n 消光系數k 反射率/%
220 0.14 2.35 91.8
250 0.19 2.85 92.0
300 0.25 3.33 92.1
340 0.31 3.8 92.3
380 0.37 4.25 92.6
436 0.47 4.84 92.7
492 0.64 5.50 92.2
546 0.82 5.44 90.0
650 1.30 7.11 90.7
700 1.55 7.00 88.8
800 1.99 7.05 86.4
950 1.75 8.50 91.2
2000 2.30 16.5 96.8
4000 5.97 30.3 97.5
6000 11.0 42.2 97.7
8000 17.0 55.0 98.0
10000 25.4 67.3 98.1
應 用：保護膜，反射膜，增透膜
用 途：超純鋁用于制造光電子存儲媒體；作為集成電路的配線；
Al分析報告：
Si Fe Cu Pb Zn Ga Ti Cd Ag In
0.0001 0.0001 0.00014 0.00001 0.00005 0.00001 0.00005 0.00001 0.00001 0.00001 |
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