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北京京邁研材料科技有限公司
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| 氧化銦靶材In2O3磁控濺射靶材 |
科研實驗專用氧化銦靶材In2O3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料
產品介紹
氧化銦（In2O3）為白色或淡黃色無定型粉末，加熱轉變為紅褐色；是一種新的n型透明半導體功能材料，具有較寬的禁帶寬度、較小的電阻率和較高的催化活性，在光電領域、氣體傳感器、催化劑方面得到了廣泛應用。而氧化銦顆粒尺寸達納米級別時除具有以上功能外，還具備了納米材料的表面效應、量子尺寸效應、小尺寸效應和宏觀量子隧道效應等。電阻式觸摸屏中經常使用的原材料，主要用于熒光屏、玻璃、陶瓷、化學試劑等。
產品參數
中文名稱：氧化銦
中文別名：氧化銦(III); 三氧化二銦
英文名稱：Indium Oxide
CAS號：1312-43-2
分子式：In2O3
分子量：277.63400
精確質量：277.79200
PSA：43.37000
外觀與性狀：白色至淡黃色粉末
密度：7.18g/cm3
熔點：2000oC
沸點：850oC
穩定性：穩定。 不易燃。 與酸不相容。
儲存條件：庫房通風低溫干燥
【關于我們】
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。 |
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