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蘇州吳中水駐極超純水設備/電駐極超純水設備/熔噴布/口罩

詳細說明

蘇州吳中水駐極超純水設備/電駐極超純水設備/熔噴布/口罩

超純水的主要用途：

1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。

2、電子產品的生產和清洗。

3、電池產品的生產。

4、半導體產品的生產和清洗。

5、電路板的生產和清洗。

6、其他高科技精細產品的生產。

超純水設備制備純水通常由原預處理系統、反滲透純化系統、超純化后處理系統三部分組成。預處理的目的主要是使原達到反滲透膜分離組件的進水要求，保證反滲透純化系統的穩定運行。反滲透膜系統是一次性去除原水中98%以上離子、有機物及100%微生物（理論上）最經常高效的純化方法。超純化后處理系統通過多種上集成技術進一步去除反滲透純水中尚存的微量離子、有機物等雜質，以滿足不同用途的最終水質指標要求。

預處理部分：

反滲透設備的預處理常常由石英砂過濾裝置、活性炭裝置、精密過濾裝置組成，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物，色素、異味、生化有機物，降低水中的余氨值及農藥污染等有害的物質。如果原水中鈣鎂離子含量較高時，還需增加軟水裝置，主要目的在于保護后級的反滲透膜不受大顆粒物質的破壞，從而延長反滲透膜的使用壽命。

反滲透主機：

主要有增壓泵、膜殼、反滲透膜、控制電路等組成，是整個水處理系統中的核心部分，產水水質的好壞主要也取決該部分。要膜的型號及增壓泵的型號選取得當，反滲透主機對水中鹽分的過濾能力都能達到99 以上，出水電導率可保證在10us/cm（25度）以內。

后處理部分：

主要是對反滲透主機制取的純水作進一步的處理，如果后續工藝接離子交換或電去離子（EDI)設備，則可以制取工業用超純水，如果用在民用直飲水工藝上，則常常接后置殺菌裝置，例如可以接紫外線殺菌燈或者臭氧發生器，從而使出來的水可以直接引用。

清洗部分：

為了保證反滲透設備系統的正常運行及延長反滲透膜元件的使用壽命，當反滲透設備系統運行一段時間后為去除碳酸鈣垢、水中金屬氧化物垢、生物滋長（細菌、真菌、霉菌等）等物質就需要對系統進行清洗。