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濰坊天潔環(huán)保科技有限公司
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| 臨沂VOC處理：低溫等離子+UV光電一體機 |
低溫等離子+UV光電一體機概述
低溫等離子+UV光電一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區(qū)，惡臭氣體先經UV紫外線光解區(qū)再到等離子分解區(qū)，經多級凈化后達標排出。
UV紫外線光解區(qū)：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。眾所周知，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它感激性異味有立竿見影的清除效果。有機惡嗅氣體通過本區(qū)后，凈化運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應，使惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化反應。 等離子分解區(qū)：采用了獨特的吸附-分解-碳化工藝技術設計，無需再生處理原料，無需專人負責，不產生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產生高強度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級的時間內，瞬間對經過UV光解區(qū)進入等離子分解區(qū)的氣體內殘留的有害分子進行氧化還原反應，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質。利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性，持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質進行催化氧化反應，使有害廢氣經多級凈化后*終達標排放。
光化學技術原理
光化學技術綜合利用了高強輻照場對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用，來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇、芳香烴等VOC（揮發(fā)性有機物）。惡臭氣體分子在輻照射線的作用下，物質分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉動、振動、電子能級發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，并利用了氧在強輻照下分解所產生的活潑的次生氧化劑來氧化這些有害物質，輻照場和氧一道，存在著一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術對惡臭去除的速率得到數(shù)量級的增加。
技術特點與優(yōu)勢
•設備結構緊湊，占地面積小，安裝簡單。
•友好的人機界面、智能化的控制，操作和維護簡便易行。
•留有計算機接口，方便聯(lián)入中控室統(tǒng)一控制、操作。
•可與設備聯(lián)動，只需運行設備，除異味裝置即可聯(lián)動。
•一次性投資，資金適中。
•設備功耗低，運行時只需電和少量的水；運行費用極低。
•設備可以靈 |
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