實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源）利用真空磁控濺射鍍膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等，沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力，該設備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩定等特點。適用于任意底色的塑料,陶瓷、樹脂工藝品，玻璃等經真空鍍膜后皆可鍍成金、銀、七彩、紅、紫、藍、灰、黑等多種鮮艷顏色，具有提高產品檔次，外觀更顯華貴作用。
應用領域：實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源）實驗用真空鍍膜機主要用于科研、教學、電子元件、及涂料生產等行業的表面表面鍍膜。
設備特點：實驗型磁控濺射鍍膜機(直流/中頻/射頻/離子源）具有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。可實現蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝�？蛇M行手動、半自動、全自動控制.有多種尺寸型號可供選擇。
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