GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機）是一款臺式緊湊型等離子清洗機，具有體積僅為臺式烤箱大小、非破壞性的納米級清洗的特點，是一款特別適合實驗室、超凈間及研發機構的理想等離子清洗設備。等離子清洗機采用工藝氣體如大氣、氬氣、氮氣、氧氣或氦氣等作為清洗氣體介質，有效避免了因液體清洗劑對被清洗物帶來的殘留物污染及排放污染。GPC-102 A等離子清洗機配套一臺真空泵，工作時真空清洗艙內中的等離子體與被清洗物的表面產生物理及化學反應，短暫的清洗就可以使有機污染物被徹底地清除，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到納米級。GPC-102 A等離子清洗機除了具有納米級清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發生重組，形成新的表面特性，而不改變材料的主要性能。對某些特殊用途的材料，在納米級清洗過程中GPC-102 A等離子清洗機的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性， 并可消毒和殺菌，而無需考慮使用化學試劑如EtOH的排放和回收。
GPC-102 A等離子清洗機應用領域：
清洗光學器件 電子元件 光學鏡片 半導體元件 生物芯片 高分子材料表面的修飾 封裝領域中的清洗和改性 涂覆鍍膜領域 牙科醫用領域
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