強大而多功能的 Cesar® 射頻電源平臺可提供非常穩定的射頻功率輸送性能,以及一個多樣化的模式選擇,每種模式都具有一套獨特的功能(2、4、13.56、27.12和40.68 MHz;0.3至5 kW;擁有多種用戶界面和輸入選擇),從而使您能夠選擇一套特別適合您應用的組件——而無需定制發生器所需的漫長交付期。
高質量的組件和較少的零件數量使可靠性和產品生命周期均實現*優化,從而使您的投資和制程生產力得到*大化的利用。一個全面而高度靈敏的操作菜單(可在該組件的多功能前面板上找到,并顯示在一個大的液晶顯示屏上)帶來了無與倫比的便利性——提高了操作人員的效率,并使培訓成本*小化。
典型應用:
高密度等離子體化學氣相淀積(HDP CVD)
等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)
刻蝕-RIE/ICP
物理氣相沉積
等離子清洗
優點
• 更長的制程正常運行時間
• 更高的操作簡易性和靈活性
• 無需定制組件提前期的定制化性能
• 長期的使用簡易性,節省成本
功能
• 精簡的流線型設計
• 標準的平臺包裝
• 高效率——低發熱量
• 200和400 VAC 的輸入選擇
• 兩個模擬用戶端口選擇
• RS-232、以太網及 Profibus 通訊
• 多功能前面板
• 便利、全面的操作菜單
• CEX(相位同步)操作模式 |
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