美國應(yīng)用材料公司旗下子公司應(yīng)用薄膜公司2008年生產(chǎn)AKT PECVD等離子增強化學鍍膜系統(tǒng)型號AKT 15K SC PECVD。此系統(tǒng)原是德國MALIBU太陽能研究實驗室用作微晶硅太陽能薄膜應(yīng)用研究的一套系統(tǒng)。目前此系統(tǒng)存儲在本公司歐洲倉庫；系統(tǒng)原來很少被使用，狀態(tài)如新，屬目前世界上微晶硅太陽能PECVD薄膜沉積*先進系統(tǒng)。
系統(tǒng)能處理五代玻璃尺寸（1100mm X 1300mm），除腔膛外，包括兩套THOMSON公司型號M-100 Rapidtek構(gòu)臺，一套美國應(yīng)用材料公司coolREF水冷機，一套日本Dainen RGA-150安培 13.56 MHz射頻電源，AKT溫度控制器，日本Kashiyawa MV-100真空干泵，AKT 15K SC 等離子增強化學鍍膜發(fā)生系統(tǒng)，英國BOC愛德華PHMB1800真空系統(tǒng)帶手提控制，四套英國BOC愛德華iF1800連網(wǎng)式真空助推系統(tǒng)連泵浦，一套Ecosys Marathon 8500尾氣處理系統(tǒng)。此PECVD微晶硅太陽能薄膜沉積系統(tǒng)帶有裝載預(yù)備真空腔(LoadLock),凸面體電極連灑雨式反應(yīng)頭可調(diào)節(jié)（至500微米精度）和氣冷式等離子感受器(Susceptor),專業(yè)優(yōu)化為微晶硅太陽能薄膜沉積優(yōu)化使用。 |
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