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供應(yīng)美國N&Q半自動光刻機

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公　司：邁可諾技術(shù)有限公司

發(fā)布時間：2024年03月11日

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趙生先生 (經(jīng)理)

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詳細(xì)說明

NQ光刻機/曝光機的應(yīng)用領(lǐng)域：
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻機/曝光機的產(chǎn)品特點：
◆ 采用雙面對準(zhǔn)技術(shù)，精度可達(dá)到0.5微米；
◆ 光刻機的分辨率可達(dá)到0.6微米；
◆ 光強均勻度可以達(dá)到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高靈敏度光強可控電源

需要更詳細(xì)的N&Q恩科優(yōu)光刻機產(chǎn)品資料，
請與邁可諾技術(shù)有限公司中國營銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!
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客服熱線：400-8800-298

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