反光片的原始片包括在其較低的半球表面提供金屬反射層的多個玻璃珠，用于支撐玻璃珠的樹脂支撐片，以及配置在樹脂支撐片表面側的透明的覆蓋膜，其中樹脂支撐片和覆蓋膜通過從樹脂支撐片背面側進行的熱壓壓紋成形彼此連接以形成反光片的原始片，反光片層壓板包括壓敏膠層和用于在反光片的原始片后面一側覆蓋壓敏膠層的樹脂剝離膜。通過熱壓壓紋成形而得到的壓紋的溝槽被一部分壓敏膠層所填充，壓敏膠層的殘留率范圍在10％～50％之間且包括10％和 50％，并且壓敏膠層的下落時間范圍在10小時～150小時之間包括10 小時和150小時。
反光片，其包括： 多個反光元件； 樹脂支撐片； 配置在樹脂支撐片表面側的透明的覆蓋膜；以及 在樹脂支撐片背面側形成的壓敏膠層， 其中反光元件容納在樹脂支撐片和覆蓋膜至少之一中， 樹脂支撐片和覆蓋膜通過從樹脂支撐片背面側的熱壓壓紋成形而彼此連接，以形成連接部分， 在樹脂支撐片的背面側形成連接部分的溝槽， 溝槽被一部分壓敏膠層填充， 壓敏膠層的殘留率范圍在10％和50％之間且包括10％和50％，并且 壓敏膠層的下落時間范圍在10小時和150小時之間且包括10 小時和150小時：其中 殘留率(％)＝(殘留位移÷初位移)×100， 初位移是指由Yamamoto的內聚力試驗儀測量的平板和反光片之間的位移(mm)，其發生在以下步驟5分鐘之后：使用由JISZ0237 規定的壓制裝置，將大小為10mm×5mm的反光片壓在寬度為5mm 的由JISG4305規定的SUS304鋼板的鏡面平板上；壓完之后立即分別在反光片的兩個末端通過細繩添加17克的負載；以及再將200克的測量載荷施加在一個負載上， 殘留位移是指除去200克的載荷10分鐘后在平板和反光片之間發生的位移， 并且下落時間是指依照JISZ0237保持力試驗在40℃下的保持力試驗中施加9.8N的載荷下反光片的下落時間。
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