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供應(yīng)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極靶

供應(yīng)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極靶_深圳市昊光機(jī)電科技應(yīng)用有限公司_供應(yīng)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極靶

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公　司：深圳市昊光機(jī)電科技應(yīng)用有限公司

發(fā)布時(shí)間：2015年10月12日

有效期：2016年04月12日

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詳細(xì)說明

旋轉(zhuǎn)陰極
特點(diǎn)：
1、采用獨(dú)特的磁路設(shè)計(jì)，突破傳統(tǒng)模式，更符合磁控濺射的理念。
2、采用獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，冷卻充分，可滿足大功率、大電流使用要求。
3、更高的濺射率，離子密度更強(qiáng)。
4、更高的利用率，高達(dá)70以上。
5、尺寸范圍：靶材外尺寸70、100、150、250，保持一致的均勻性
6、使用范圍：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。

使用領(lǐng)域：裝飾鍍、工具鍍、ITO、光伏、LOE-E玻璃等

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