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供應(yīng)磁控濺射平面陰極靶

供應(yīng)磁控濺射平面陰極靶_深圳市昊光機(jī)電科技應(yīng)用有限公司_供應(yīng)磁控濺射平面陰極靶

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公　司：深圳市昊光機(jī)電科技應(yīng)用有限公司

發(fā)布時(shí)間：2015年10月12日

有效期：2016年04月12日

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詳細(xì)說(shuō)明

平面濺射陰極
特點(diǎn)：
1、采用獨(dú)特的磁路設(shè)計(jì)，突破傳統(tǒng)模式，更符合磁控濺射的理念。
2、采用獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可以?xún)?nèi)置、外置，更符合使用要求。
3、更高的濺射率，離子密度更強(qiáng)。
4、更高的利用率，高達(dá)40%以上。
5、尺寸范圍：300-3000mm區(qū)間，保持一致的均勻性
6、使用范圍：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體、MEMS、TFT、ITO、LOW-E玻璃、硬質(zhì)涂層、裝飾性膜層

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