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供應多功能真空鍍膜機

供應多功能真空鍍膜機_深圳市昊光機電科技應用有限公司_供應多功能真空鍍膜機

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公　司：深圳市昊光機電科技應用有限公司

發布時間：2015年10月12日

有效期：2016年04月12日

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王明先生 (業務部經理)

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電　　話： 0755-26985163-813 傳　　真： 0755-26991745 手　　機： 13928453655 地　　址：中國廣東深圳市龍崗區坪地鎮高橋產業區麻沙旭達工業區1棟郵　　編： 518000
公司主頁：	http://infobright.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

本設備是利用真空磁控濺射鍍膜方式，可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO等，沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力，設備具有濺射速率快、基片升溫低、加熱穩定等特點。
設備配置如下：
序號項目基本型 LOADLOCK型
1 鍍膜室尺寸 ∮500 ∮500
2 真空室數量 1 2
3 鍍膜方向上垂直安裝陰極，向下濺射上垂直安裝陰極，向下濺射
4 陰極尺寸 ∮50、∮100、∮160 ∮50、∮100、∮160
5 陰極數量 2-6個 2-6個
6 真空系統粗抽+分子泵組粗抽+分子泵組
7 工藝氣體路數 4路 4路
8 壓力檢測 MKS 1Torr MKS 0.5Torr
9 極限真空度 8*10-5Pa 8*10-5Pa
10 鍍膜電源直流、中頻、射頻直流、中頻、射頻
11 加熱溫度 *高350度 *高350度
12 膜層數量單層-多層單層-多層
13 膜層種類金屬膜、反應膜、絕緣膜金屬膜、反應膜、絕緣膜
14 樣片尺寸 *大8寸 *大8寸
15 樣片數量單片為主單片為主
16 濺射不均勻性 ≤±5% ≤±3%
17 控制系統 PC+PLC PC+PLC
18 控制方式自動+手動自動+手動

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