磁控濺射靶材
（可為電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能電池行業，磁存儲行業，工具行業，裝飾行業提供高品質靶材）
高純單質金屬濺射靶材（3N-6N）：鋁靶，鉻靶，銅靶，鎳靶，硅靶，鍺靶，鈮靶材，鈦鈀，銦靶，銀靶，錫靶，石墨靶，鉭靶，鉬靶，金靶，鉿靶，錳靶，鋯靶，鎂靶，鋅靶，鉛靶，銥靶，釔靶，鈰靶，鑭靶，鐿靶，釓靶，鉑靶等高純單質金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材（3N-5N）：ITO靶，AZO靶，IGZO靶，氧化鎂靶，氧化釔靶，氧化鐵靶材，,氧化鎳靶，氧化鉻靶，氧化鋅靶，硫化鋅靶，硫化鎘靶材，硫化鉬靶，二氧化硅靶，一氧化硅靶，二氧化鋯靶，五氧化二鈮靶，二氧化鈦靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，氟化鎂靶，硒化鋅靶，氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶材，鈮酸鋰靶，鈦酸鐠靶材，鈦酸鋇靶，鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注：CNM生產的陶瓷靶材采用世界*先進的陶瓷生產工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶，鎳鉻合金靶，鈦鋁合金靶，硅鋁合金靶，銅銦合金靶，銅鎵合金靶，銅銦鎵合金靶，銅銦鎵硒靶，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶，鎢鈦靶，，鐵鈷靶，白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注：CNM生產的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。 |
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