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納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用

納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用_晶瑞廣州新材料有限公司_納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用

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公　司：晶瑞廣州新材料有限公司

發(fā)布時間：2024年10月21日

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詳細說明

納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用

由于納米二氧化硅成本相對較低，且具有良好的分散性、機械磨損性，高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.，因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導攝像管等表面精密拋光。
化學機械拋光（CMP）技術(shù)是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領(lǐng)域使用廣泛的表面超精密加工技術(shù)，研磨拋光材料是化學機械拋光過程中必不可少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化鈰、氧化硅、氧化鋁和金剛石(鉆石)。氧化鈰主要用于玻璃晶體等拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光，而納米二氧化硅拋光液主要用于許多材料表面精密拋光。這幾種材料往往可以搭配使用，組成研磨-拋光的理想材料。本次介紹下納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）的應(yīng)用。
(晶瑞納米材料微芯：gzjr88.)
納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）應(yīng)用特性：
1、納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成，通過高科技術(shù)分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。
2、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會對加工件造成物理損傷，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的
3、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。
4、高達到高平坦化研磨加工。
5、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。
納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）使用范圍：
1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。
2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統(tǒng)、光導攝像管等的加工過程。
4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。
指標：
型號外觀粒徑含量應(yīng)用
VK-SP50W 白色乳液 50nm 20-30% 精密拋光
VK-SP50F拋光粉白色粉體 50nm 99.8 精密拋光

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