高純氬氣凈化機
裝置說明：
原料氬氣純度為≥99. 99%時，其純化工藝為，采用非蒸散型吸氣劑為凈化劑，在一定溫度下，吸氣劑可將普氬氣中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等雜質形成穩定的化合物或固溶體，從而達到對氬氣精制的目的。本裝置凈化器采用特殊結構，具有接觸面積大、阻力小、凈化效率高、熱功率損耗小等優點。本裝置吸附干燥器對氬氣進行深度脫水，可與區熔硅晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。
一、技術參數：
1、處理氣量： 5~500Nm³/h
2、純化后氬氣純度 99.9995%
純氬技術要求應符合下表的規定符合：GB/T4842-2006
項目 原料氣指標 純氬指標 純化后指標
氬氣純度(體積分數)/10-2 99.99% 99.999% 99.9995%
氫氣含量(體積分數) ≤ ppm 5 1.0 0.5
氧氣含量（體積分數）≤ ppm 10 1.5 1.0
氮含量（體積分數）≤ ppm 50 4 2
烴類含量（體積分數）≤ ppm 20 1 0.5
水份含量（體積分數）≤ ppm 15 3 2.0
裝置特點：
凈化則采用了世界*先進的凈化材料。其特點有吸附深度好，吸收雜質氣體量大的特點，*高純度可達99.9999%以上。2. 并在*后安裝了小于0.1μ的金屬過濾器。保證了氣體粉末的要求。
本裝置的閥門采用國內外專業閥門公司的優質產品，保證了產品的高純度無滲透及安全可靠性。4. 設備中全部容器、管道、閥門均為不銹鋼材質。5. 設備中全部選用我公司跟蹤國際先進水平而研制的凈化材料，具有凈化深度好、安全可靠、可反復再生的特點。6. 設備中的主要控制儀表全部采用國內外先進產品。7. 接頭采用先進的高純接頭,保證了無滲透。8. 外觀設計采用國際流行顏色及形式,使產品更美觀。9. 設備可以在線加裝微氧分析儀和微量水分析儀使凈化后氣體得到監測。避免了因設備問題的損失。10. 本設備具有體積小,操作簡便,能耗小,安全可靠的特點。無須頻繁再生及再生無須加氫的特點。11. 本設備在金屬保護行業、電子、電光源、科研、氣體、分析、醫學等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等的配套使用設備，得到了廣泛的應用。12. 另外，我公司還可以根據用戶的不同需求，定制5 m3/h～500 m3/h的大凈化流量高純氣體凈化器。詳情請來電垂詢，歡迎訂購。13. 可根據用戶的要求對設備進行再設計，如加裝水分儀和全自動設備（價格另議） 設備加裝微氧分析儀使凈化后氣體得到監測。避免了因設備問題的損失。本設備具有體積小，操作簡便，能耗小，安全可靠的特點。無需頻繁再生及再生無須加氫的特點。
：本公司也可根據客戶要求，直接做高壓的，這樣就可省掉使用模壓機增壓工序。
高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了提高硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。 氬氣純化裝置是針對需要使用超高純度氬氣的客戶而設計的。
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