真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現象，早在1982年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+并產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。
本公司的磁控濺射鍍設備有以下幾大特點：1、膜厚可控性和重復性好，能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜，并且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；2、薄膜與基片的附著力強，并且部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；3、可以制備特殊材料的薄膜，可以制膜層可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；4、膜層純度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
本公司擁有*完善的售后服務體系，使用本公司設備可免費提供技術工，操作工培訓和*先進的生產工藝。 |
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