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供應(yīng)MRC603真空濺射鍍膜機

供應(yīng)MRC603真空濺射鍍膜機_深圳市昊光機電科技應(yīng)用有限公司_供應(yīng)MRC603真空濺射鍍膜機

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公　司：深圳市昊光機電科技應(yīng)用有限公司

發(fā)布時間：2015年10月12日

有效期：2016年04月12日

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王明先生 (業(yè)務(wù)部經(jīng)理)

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公司主頁：	http://infobright.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細(xì)說明

1、設(shè)備名稱：MRC603真空濺射鍍膜機
2、設(shè)備品牌：美國MRC
3、設(shè)備規(guī)格：MRC603
4、設(shè)備介紹：
MRC603采用獨特的立式結(jié)構(gòu)設(shè)計及特殊結(jié)構(gòu)的陰極，可實現(xiàn)高濺射，膜厚均勻性和高靶材有效使用率，從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn)，可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等，主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗，預(yù)真空室具有基片承載盤升降機，使得裝卸基片和濺射工藝同時進(jìn)行，從而實現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。12”x12”尺寸的基片承載盤，可放置不同尺寸及形狀的基片。9個4” 基片/次，6個4” 基片/次，1個12” 基片/次。

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