1、設備名稱：LPCVD設備
2、設備品牌：美國TYSTAR
3、設備功能：多晶硅、氮化硅、擴散、氧化、退火等
4、設備應用：半導體、MEMS、電子、太陽能、薄膜電池等
5、設備介紹
TYTAN爐系統用于半導體器件、微機電系統和光電池的制造。泰斯達已經在全世界安裝了數百個爐子，并且它們的運轉都是成功的，一些系統的運轉已經超過了20年。TYTAN爐是由各種組件和組合件組裝而成的精致的裝置。其機械部分、電子組件和復雜的石英制品都經過特別的設計，以保護處理過程中的硅片的完整性。在操作工藝中，爐子在1300攝氏度的溫度下運作，能夠暴露在有毒，且有腐蝕性的氣體和液體之中。在過去的30年內，爐子的設計由于泰斯達公司不斷的更新，提高了其性能和耐用性。程序控制器經過數次重復設計，以增強其操作的簡易度和精確性。TYTAN爐系統的設計讓其具備了耐用性、穩定性和適用性。TYTAN爐系統為硅晶片的加工行業提供了一個獨特的途徑。隔熱包專利產品提供了更緊湊的爐體-其性能卻不打折扣。這種設計導致了均勻性良好的處理工藝和更高的硅片生產產量。
6、設備特點：
■占地空間小，節約了40%的潔凈室空間
■優質的溫度和處理的均勻性
■正常運行時間大于95%，生產能力突出
■在節能上，超過競爭對手設計的50%
■加工生產量更高
■改善了對氣體處理環境的控制
■倒流入爐管的空氣量最小
■使用的氣體更少
■生成的顆粒少
■生產成本降低 |
|
手機站
您當前位置是：商業機會 >> 電工電氣 >> 電工電氣產品制造設備 >> 供應LPCVD設備
聯系信息