提供各種靶材用于磁控濺射工藝制備CIGS薄膜
一, 四元合金靶材：CIGS 靶材
1，常規(guī)原子比：1:0.7:0.3:2 或者 1:0.8:0.2:2 （客戶(hù)亦可根據(jù)自身工藝制訂原子比例）
技術(shù)對(duì)接：CVD合成四元合金（高精分析天平稱(chēng)量，各種元素的配比公差低于百萬(wàn)分之一）--氮?dú)獗Ｗo(hù)下研磨制粉 –HP （熱壓）--檢驗(yàn)—打磨，拋光。
2，檢驗(yàn)：ICP-MS；XRD 通過(guò)ICP-MS 檢測(cè)雜質(zhì)含量：5N的CIGS 靶材的雜質(zhì)元素總和小于10ppm
通過(guò)XRD衍射 ：CIGS 具備閃鋅黃銅礦結(jié)構(gòu)。（可提供檢驗(yàn)報(bào)告和樣品）
3，靶材致密度：大于93%
4，服務(wù)：可免費(fèi)提供導(dǎo)電玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客戶(hù)*后的硒化工藝，因?yàn)榇趴貫R射CIGS的過(guò)程中有硒的流失。
5，安全防護(hù)措施：提供MSDS及濺射過(guò)程中的必要防護(hù)。
二，三硒化二銦（In2Se3）靶材；三硒化而鎵（Ga2Se3）靶材，硒化亞銅（Cu2Se），或硒化銅（CuSe）靶材
技術(shù)對(duì)接：CVD 合成二元合金 – HP （熱壓）--檢驗(yàn)—打磨，拋光。
三，銅鎵(CuGa);銅銦(CuIn);銅鎵銦（CuGaIn）靶材
*配方原子比例：客戶(hù)可自選，我方亦可以提供常規(guī)原子比例。
四，銅（Cu）靶；銦(In)靶，硒(Se)靶
技術(shù)對(duì)接：澆鑄
五，CIGS 配套靶材
N型：硫化鎘(CdS )靶,硫化鋅（ZnS）靶，硒化鋅（ZnSe）靶 。
氧化鋅鋁（AZO）靶 ,鉬（Mo）靶
1，由于硫化鎘有毒，所以硫化鋅，硒化鋅靶為其替代品。試驗(yàn)表明硒化銦也有此屬性。
2，硫化鎘，硫化鋅，硒化鋅制備工藝：CVD 高純氬氣攜帶金屬蒸汽（鎘，鋅蒸汽）進(jìn)入反應(yīng)室與過(guò)量的H2S,H2Se 氣體氣相沉積而成。 |
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