詳細(xì)說(shuō)明
鍍鈦 表面處理
真空法 這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過(guò)程。其主要方法是。
�。ㄒ唬┪锢須庀喑练e（PVD）
在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過(guò)程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。
（二）離子注入
高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過(guò)程，稱為離子注入，如注硼等。
�。ㄈ┗瘜W(xué)氣相沉積（CVD）
低壓（有時(shí)也在常壓）下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過(guò)程，稱為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
本公司在真空離子鍍方面擁有多年的生產(chǎn)實(shí)戰(zhàn)經(jīng)驗(yàn)，特別是可以解決在處理鎢鋼模具時(shí)不附膜或不能退鍍這一目前許多廠家不能解決的難題。現(xiàn)已廣泛推行應(yīng)用的功能性薄膜包括：氮化鈦(TiN), 氮化鉻(CrN), 氮化鋁鈦(TiAlN), ,氮碳化鈦(TiCN), 氮碳化鉻(CrCN)、模具鍍硬鉻、鍍黑鉻、電鑄、模具鏡面拋光、省模去料紋。 |
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