小型激光直寫(xiě)機(jī)
激光直寫(xiě)機(jī)用于CAD到基板的直接精確套寫(xiě)。既可作為常規(guī)的套寫(xiě)工具也可用于特定規(guī)格的定制系統(tǒng)。LW405B是LW405A的升級(jí)版，它包括Windows7用戶界面，全數(shù)字?jǐn)z像機(jī)、XY激光干涉機(jī)以及數(shù)項(xiàng)附加軟件功能。
改系統(tǒng)由三部分組成：
直寫(xiě)單元
控制單元
LaserDraw 軟件包
每個(gè)部分的詳細(xì)技術(shù)介紹參見(jiàn)以下介紹
應(yīng)用包括直接基板套寫(xiě)及微電子掩膜制造、微波電路、太赫茲技術(shù)、微機(jī)械、微流體、石墨和納米管技術(shù)等。
所述規(guī)格皆可定制
LW405-A 激光直寫(xiě)型號(hào) 標(biāo)準(zhǔn)型 緊湊型 臺(tái)式 選配
*大工作區(qū)域(mm)
激光直寫(xiě)機(jī)的工作區(qū)域可匹配各類掩膜或基板尺寸。包含一個(gè)真空倉(cāng)（倉(cāng)體表面通常根據(jù)客戶要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作區(qū)域。 150x150
(6”x6”) 150x150
(6”x6”) 50x50
(2”x2”) up to 350x350
定位精度 (µm)
這一參數(shù)代表的是在整個(gè)工作區(qū)域的絕對(duì)定位誤差以及由于不同的掩膜或工藝水平所可能導(dǎo)致的特征重疊。但這與所達(dá)到的分辨率無(wú)關(guān)，如*小線寬。 ± 0.1 ± 1 ± 1
XY 激光干涉儀
10 nm分辨率 Yes No No
*小線寬(µm)
*小線寬操作者可以在0.8、2、4或8 µm間進(jìn)行選擇。對(duì)于高密度互聯(lián)或微波電路的快速直寫(xiě)，可選擇一個(gè)極低分辨率的模式（10m）。 0.8 0.8 2
曝光波長(zhǎng) (nm)
直寫(xiě)光束的標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)為405nm（來(lái)源于GaN固體激光）。對(duì)于生物化學(xué)應(yīng)用可選配325nm波長(zhǎng)（來(lái)源于He-Cd 氣體激光）。 405 405 405 325, 375, 405&375
防護(hù)層曝光
包含所有標(biāo)準(zhǔn)的含防護(hù)層的膜（鉻或氧化鐵）。除了掩膜直寫(xiě)，本系統(tǒng)也適用于在*終基板上進(jìn)行無(wú)膜直接套寫(xiě)（硅、GaAs、InP、微波低溫生物學(xué)基板等）。 Yes Yes Yes -
在LDW 玻璃上曝光
LW405能套寫(xiě)過(guò)程基板如激光直寫(xiě)（LDW）玻璃膜（詳見(jiàn)http://www.canyonmaterials.com/ldw.html） Yes Yes Yes -
曝光能量穩(wěn)定劑
持續(xù)監(jiān)測(cè)曝光水平使其在整個(gè)直寫(xiě)過(guò)程中保持穩(wěn)定。對(duì)于灰度曝光，持續(xù)保持參考水平。 Yes Yes Yes -
灰度能力
也提供可變的像素對(duì)像素曝光（灰度套寫(xiě)）用于制造衍射光學(xué)和MEMs等。 Yes Yes Yes -
可變分辨率
顯微光刻步驟中，有些過(guò)程可以利用減少的平面分辨率。典型的例子是使用粗糙表面作為基板（如：鋁）。激光直寫(xiě)系統(tǒng)分辨率的改變是通過(guò)替換光束聚焦器件來(lái)實(shí)現(xiàn)，過(guò)程只需幾秒鐘。 Yes Yes Yes -
潔凈室組裝
每個(gè)光學(xué)器件、機(jī)械及電子子系統(tǒng)在組成激光直寫(xiě)單元之前都經(jīng)過(guò)仔細(xì)的清洗消毒。每個(gè)單元都是在潔凈室內(nèi)進(jìn)行組裝及測(cè)試，以此將在操作環(huán)境中顆粒釋放的可能性降到*低。 Yes Yes Yes -
用作基板檢查站
每套系統(tǒng)包括一個(gè)CCD攝像頭以及相關(guān)的照明系統(tǒng)。使操作者可以使用激光直寫(xiě)作為一套表面檢查和計(jì)量的系統(tǒng)。還包含一個(gè)高分辨率的電子攝像頭以及相關(guān)的在線圖像捕捉和處理系統(tǒng)。 Yes Yes Yes - |
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