AMD-301堿性無氰鍍銅
一、 特性
* 不會像氰化物鍍液那樣有劇毒、對環境和操作者造成很大的危害
* 可直接鍍于鋼、黃銅以及吊鍍工藝的鋅壓鑄件和浸鋅后的鋁件
* 可適用于滾、吊鍍以及連續式的生產線
* 能為酸性鍍銅和鍍鎳形成一層良好的底層
* 不含有毒分解物,以免被帶入到酸性銅鍍槽
* 能容許碳酸鹽(無需冷凝出)
* 具有優質的覆蓋性能
* 產生一層有具晶粒細化,良好延展性,無孔的沉積鍍層
二、 應用建浴值
AMD-301MU開缸劑 200-300ml/L(V/V)
AMD-301 A 高位光亮劑 1-2ml/L
AMD-301 B低位光亮劑 4-8ml/L
溫 度 30-50℃
pH 值 7.5-9.0
陰極電流密度 0.5-5A/dm2
電 壓 6-10V
陽極 :陰極 2-2.6 :1
三、 設備及操作
銅 陽 極 OFHC級別。銅條或銅球。不可用磷銅角。
陽 極 籃 只可用鈦
陽極/陰極比例 2-2.6。1。注意:在滾鍍上,維持適當比例是很重要的。在設計工藝前要計算清楚*大陰極面積以確保陽極面積相等于*大陰極面積。另外要注意保持足夠之陽極面積以溶解充足之銅陽極。
過 濾 以10微米濾芯連續過濾,每小時過濾槽液3-5次。新濾芯用前要以熱水浸泡及徹底清洗。建議鍍液以不含硫之碳芯過濾,約1公斤碳處理每100公斤鍍液,另每星期更換。當電鍍厚銅時(25微米或以上),濾芯建議用1微米。
加 熱 不銹鋼或鈦管。
鍍 槽 鐵底包聚丙烯。
污 染 鉛及氰化物對鍍液有影響-出現黑色垢!
四、 添加劑的消耗量
AMD-301MU開缸劑 濃縮液用以開缸劑配鍍液及補充。含銅及其它有關平衡組份。
每補充10毫升/升開缸劑提升銅含量0.3克/升。
AMD-301A高位光亮劑 提供整體性銅層光亮度。消耗量每千安培小時100-200毫升(滾鍍)、100-200毫升(掛鍍)。
AMD-366 B低位光亮劑 改善均鍍能力,增加與基體的結合力。消耗量每千安培小時100-200毫升(滾鍍)、100-200毫升(掛鍍)。
五、 鍍液配制 注意:切勿將含氰化學物帶入本工藝內。
用每升3克活性碳加入剛配制溶液中,不斷攪拌30分鐘,讓其沉淀后過濾,隨后將AMD-301 B柔軟劑計算量加入槽內,加水至所需液位,不斷攪拌30分鐘,再加入所需計算量AMD-301A光亮劑。新配鍍液需低電流處理6小時,即可試鍍(建議*好先取樣用赫爾槽小試)。
六、 注意事項
1、 H值過高,鍍層發霧、起毛剌、結合力差;
2、 H值的調高添加濃縮液調整; |
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