電子工業用超純水設備
一、概述
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用領域
• 電子半導體、集成電路板上用到的化工材料；
• 電池(蓄電池)制造過程工藝純水；
• 光學鏡片的超聲波清洗；
• 石英、硅材料生產、加工、提純；
• 實驗室和中試車間；
• 高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水。
三、工藝流程
1、一級反滲透+混床（出水2---15mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機→純水箱→純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器→儲水罐→純水輸送泵→用水點
2、一級反滲透+EDI系統（出水5---15mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機→純水箱→EDI系統→儲水罐→純水輸送泵→用水點
3、二級反滲透+EDI系統（出水18mΩ.cm）
原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透主機→PH調節→二級級高壓泵→二級反滲透→純水箱→脫氣裝置→微孔過濾器→EDI系統→拋光混床系統→儲水罐→純水輸送泵→用水點
四、出水標準
符合美國ASTM標準、符合《中國電子行業超純水國家標準》GB/T1146.1-1997
（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）
五、訂貨須知
具體的設備處理量、出水標準、設備材質、尺寸及電器控制等，我公司將會提供給您詳細的方案說明。
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