擴散爐應用:應用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域,適用2~8英寸工藝尺寸
產(chǎn)品特點:
◆主機為水平一至四管爐系統(tǒng)構(gòu)架,獨立完成不同的工藝或相同工藝
◆工業(yè)計算機控制系統(tǒng),對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制
◆采用懸臂送片器:操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均采用進口,確保設備的高可靠性
◆工藝管路采用進口閥門管件組成氣密性好、耐腐蝕、無污染(管路均采用EP級電拋光管路),流量控制采用質(zhì)量流量計(MFC)進口
◆控溫精度高,溫區(qū)控溫穩(wěn)定性好;
◆具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能
擴散爐主要技術指標
1、工藝說明
1.1氧化:干氧工藝,濕氧工藝(去離子水、氫氧合成-內(nèi)/外點火)
1.2擴散:硼擴、磷擴(液態(tài)源、固態(tài)源等)
1.3合金、退火等工藝
2、系統(tǒng)組成:主機(加熱體、石英/SiC管、功率組件等)、自動送片(懸臂-SiC)凈化工作臺、氣路氣源系統(tǒng)(氣源柜)、計算機控系統(tǒng)等組成
3、控制方式:手動送片/自動送片
4、擴散爐配置(可選):
4.1儀表控制/計算機控制
4.2工藝管(水平結(jié)構(gòu)):1-4管
4.3工藝規(guī)格:2~6英寸晶圓或125mm×125mm、156mm×156mm太陽能電池片(工藝腔體為石英或碳化硅)
4.4恒溫區(qū)長度:1100mm/800mm/600mm/450mm
4.5晶圓裝載:懸臂式,剛玉/碳化硅桿,碳化硅槳
4.6工作臺:有凈化/無凈化
4.7工藝氣路:對應的工藝氣路,氣路閥門組件采用國際優(yōu)質(zhì)品牌產(chǎn)品(如SWAGELOK、PARK、SANDVIK、CARDINAL等等),MFC國際優(yōu)質(zhì)(如MKS、UNIT、STEC等)或國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)
5、擴散爐主要技術參數(shù):
5.1工作溫度:200~1300℃
5.2加熱體控制點:3/5點
5.3爐體恒溫區(qū):450mm/600mm/800mm/1100mm
5.4恒溫區(qū)精度:>800℃/±0.5℃ ,<800℃/±1℃
5.5單點溫度穩(wěn)定性:600~1300℃/ ±0.5℃/24h
5.6*大可控升溫速度:25℃/min
5.7*大降溫速度:5℃/min(900~1300℃)
5.8供電:三相四線,380VAC/50HZ
6、 結(jié)構(gòu)尺寸:
6.1 結(jié)構(gòu):水平擴散爐/垂直擴散爐 |
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