一． 電子行業（特別是微電子行業）純水需求量大，其特點是水質要求較高，電阻率一般大于15MO-CM以上。主要應用于：
1.大規模集成電路元器件的生產用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關用水標準（GB/T11446.1-1997）執行。
2.電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中（即GB/T11446.1-1997）有可為四級（一級*高電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM）.
二.制水工藝：
1.一級反參透加混合離子交換柱，適用標準中的三級和四級。
2.反參透加混合離子交換柱，再加一級精混（采用進口拋光樹脂）適用于標準1級和2級出水指標。
3.目前有一種新的工藝：
即反參透（1級或2級反參透）加ED1（電脫鹽），此工藝*大的優點是操作簡單，無需樹脂再生工藝，且出水指標一般均達到15MO-CM以上。
電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15us/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10us/cm以下純水來清洗，電鍍行業水處理系統包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。通常系統由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，edi裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。 |
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