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供應程控擴散爐

供應程控擴散爐_青島福潤德微電子設備有限公司_供應程控擴散爐

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公　司：青島福潤德微電子設備有限公司

發(fā)布時間：2024年10月24日

有效期：2025年04月25日

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公司主頁：	http://furundewdz.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細說明

擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅
片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

擴散爐技術指標：

可處理硅片尺寸：2—12英寸
外型形式：臥式1—4管結構
工作溫度：200℃—1300℃
恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩(wěn)定性、重復性：≤±1℃／24h
溫度斜變：可控升溫速率15℃／min
可控降溫速率：5℃／min
送片裝置：手動推拉
氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管
氣體控制：手動浮子流量計
控制方式：程控

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