現(xiàn)代特種材料的發(fā)展是以綜合性科學(xué)研究為基礎(chǔ)的。它是以激光和先進(jìn)探測器為基礎(chǔ)，緊密結(jié)合電光技術(shù)、電子技術(shù)、微電子技術(shù)、精密機(jī)械技術(shù)和計算機(jī)技術(shù)的技術(shù)。特種材料因其多功能性，廣泛應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、大規(guī)模芯片組件、微電子器件、元器件和電路板電路組成的多功能系統(tǒng)中。并且由于其光學(xué)性質(zhì)，已經(jīng)滲透到光電材料和元件、光學(xué)儀器、光信息(信息)產(chǎn)業(yè)、光通信產(chǎn)業(yè)、光電顯示、激光器和激光應(yīng)用、光電附件和電子元件、SMT表面貼裝、半導(dǎo)體工業(yè)、照相器材、制藥工業(yè)、化學(xué)工業(yè)等行業(yè)和科學(xué)領(lǐng)域。而且這些成分在相對濕度60%RH以上的潮濕空氣中更容易吸收水分。各種配件和元件在使用前就失效，嚴(yán)重影響設(shè)備的可靠性。
隨著設(shè)備的不斷更新，各種新型特殊材料，如先進(jìn)高分子材料、橡塑零件、各種精密光學(xué)鏡面零件等不斷被應(yīng)用，這些特殊材料所要求的儲存濕度范圍也各不相同。比如：
計算機(jī)用的各種磁盤、磁帶、照片、錄音帶、皮革制品，要求濕度范圍為40% RH ~ 55% RH。精密儀器、集成板、半導(dǎo)體元件和印刷電路板要求濕度范圍為30% RH至45% RH。光學(xué)測量鏡片：水晶、紅外、夜視鏡要求的濕度范圍為20% RH ~ 35% RH。電子元件的BGA和LCD所需的濕度低于15%RH
由于上述特殊材料缺乏適宜的儲存環(huán)境，經(jīng)查，受霉變、起霧、氧化腐蝕、金屬零件腐蝕、高分子材料變形、老化斷裂、電子器件失效等影響，器件壽命受到嚴(yán)重影響。因此，迫切需要提高電子元器件和各種附件的可靠性，保證設(shè)備的可維護(hù)性和完整性，按照濕度范圍進(jìn)行管理，建立恒溫恒濕存儲平臺，滿足各種精密附件和電子元器件的濕度環(huán)境要求。
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