THERMOWAY RTD WAFER 專為需要高精度溫度測量的製程所 設計，例如半導體光阻劑處理系統(tǒng)、晶圓探測器和許多其他類型 的半導體製造設備。 透過研發(fā)團隊精心整合設計帶來高量測精度和結(jié)果穩(wěn)定性， WAFER 上的 RTD 傳感器，黏合及封裝材料，四線式電阻測量 方式是關(guān)鍵的集成元件。 
Features  工作溫度範圍： -80°C to 300°C  溫度點位： 1 to 160 points  提供校正服務  提供應用軟體及分析系統(tǒng) 
Applications  測量和記錄製程週期的晶圓溫度：裝載、升溫、穩(wěn)定狀態(tài)、冷卻和卸載。  提升對溫度的控制及㇐致性。  管理具有嚴格熱性能規(guī)格的生產(chǎn)流程或為 SPC 系統(tǒng)提供數(shù)據(jù)。  在硬體或製程研發(fā)期間優(yōu)化晶圓工藝。  在*終鑑定、晶圓廠啟動以及修復或升級系統(tǒng)的重新鑑定過程中對晶圓廠設備進行測試和基準測試。 
Specifications
Temperature Range: -80°C to 300°C 
Wafer Size: 6”, 8”, 12” 
Element Type: Thin Film Platinum 
Element Resistance: 100Ω, 1000 Ω nominal at 0°C
 Resistance Alpha Value: 0.00385
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