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拓?fù)浯判圆牧希判源鎯?chǔ)器研究新平臺(tái)

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公　司：上海埃飛電子科技有限公司

發(fā)布時(shí)間：2021年11月16日

有效期：2022年05月15日

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公司主頁：	http://zaipian.qy6.com.cn(加入收藏)

詳細(xì)說明

該產(chǎn)品采用的是自旋離子技術(shù)，該工藝基于多層疊層的超快離子束處理，能夠改善結(jié)構(gòu)特征，這種獨(dú)特工藝通過提高均勻性、提高磁性能和提高產(chǎn)量來提高M(jìn)RAM磁層的性能。

使用離子輻射實(shí)現(xiàn)磁性調(diào)制的可擴(kuò)展和低功率電場(chǎng)門控疇壁（DW)器件的新概念。磁性薄膜的磁性蔣通過使用離子輻射誘導(dǎo)界面工程進(jìn)行調(diào)整。

通過光刻掩膜和聚焦離子束技術(shù)的照射也將允許在薄膜或納米器件上創(chuàng)建磁性模式，特別有利于DW自動(dòng)運(yùn)動(dòng)的各項(xiàng)異性梯度。

產(chǎn)品功能：

1、使用獨(dú)特的離子束技術(shù)在原子尺度上增強(qiáng)材料性能。

2、對(duì)原子間位移進(jìn)行精確的生長后控制。

3、采用離子束工藝處理內(nèi)部先進(jìn)磁性材料。

4、可以運(yùn)用界面調(diào)控方法高效提高材料表面起電性能。

產(chǎn)品特色：

1. 短程原子間移動(dòng)

2. 低能量轉(zhuǎn)移 He+離子束的能量范圍從1-30keV

3. 在25毫米試樣上進(jìn)行超快速均勻輻照（幾分鐘）

4. 通過材料表面改性，提高其界面?zhèn)鬏旊姾赡芰Φ耐瑫r(shí)，無結(jié)構(gòu)損壞。

5. 設(shè)備為超緊湊型設(shè)施，不占空間，挪用方便。

免責(zé)聲明：以上所展示的信息由會(huì)員自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)，m.lyxsdst.com對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任。如有侵犯您的權(quán)益，請(qǐng)來信通知?jiǎng)h除。

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