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等離子清洗機(jī)在包裝瓶涂覆工藝上的應(yīng)用

等離子清洗機(jī)在包裝瓶涂覆工藝上的應(yīng)用_河南先途智能科技有限公司_等離子清洗機(jī)在包裝瓶涂覆工藝上的應(yīng)用

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公　司：河南先途智能科技有限公司

發(fā)布時間：2019年04月22日

有效期：2019年10月19日

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詳細(xì)說明

在氧等離子體中對硅蒸汽進(jìn)行氧化處理，可得到SiOx。陽極電弧工藝使用消耗性硅金屬，硅金屬置于熔爐內(nèi)作為真空電弧的陽極。如果在金屬陰極和上述熔爐之間施加一個20~30V的直流電壓，只要在陰極前存在蒸汽團(tuán)，就會在陰極和陽極之間產(chǎn)生連續(xù)的電弧放電。這一放電可在真空爐體內(nèi)部產(chǎn)生高活性等離子體，這時，處于高激發(fā)狀態(tài)的硅原子被蒸發(fā)，并朝向在蒸汽云上部不斷旋轉(zhuǎn)的包裝物基底移動。此時，如果向蒸汽中加入氧氣，則會在包裝物基底表面沉積一層SiOx。
等離子體聚合工藝是一種在基底上生成有機(jī)或無機(jī)類聚合物涂層的工藝。這一工藝屬于等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積工藝范疇。在PECVD工藝中，將所需成分的蒸汽引入等離子體，等離子體內(nèi)部的電子將分子電離或裂解為自由基。所生成的活性分子可在表面或在氣相環(huán)境中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，*后經(jīng)過沉積形成薄膜。成核過程取決于材料表面的形貌以及表面是否存在外來原子。通過上述工藝生成的致密薄膜具有疏水性，且不存在氣孔。但是，為了在短時間內(nèi)生成具備良好品質(zhì)的薄膜，工藝參數(shù)必須進(jìn)行優(yōu)化，在阻隔層應(yīng)用領(lǐng)域，尤其需要對工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。通過在等離子體環(huán)境下裂解硅樹脂，可以得到有機(jī)硅薄膜。如果使硅原子與氧氣、氮氣或其混合氣體發(fā)生反應(yīng)，則可沉積生成二氧化硅、氧化硅或氮氧化硅薄膜。類金剛石碳薄膜的前驅(qū)反應(yīng)物采用乙炔等有機(jī)氣體。
與傳統(tǒng)CVD工藝相比，等離子脈沖化學(xué)氣相沉積（PICVD）工藝是一項具有很大改進(jìn)的工藝。在功率源（一般采用射頻或微波功率源）上施加脈沖信號，就可以產(chǎn)生脈沖等離子體。脈沖等離子體可允許涂覆過程中離子具有較低能量。涂層通過一系列小型處理工序逐漸增厚，*終生成一層高度致密的均勻涂層。此外，在兩次脈沖之間，可以改變反應(yīng)混合物的化學(xué)組成成分。因此，在同一次工藝運行過程中，可以涂覆多層具備不同性能的涂層，從而生成按需定制的多涂層系統(tǒng)。PICVD工藝制備SiO2和TiO2涂層技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于各種塑料（如聚對苯二甲酸乙二醇脂（PET）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯（PC），共聚環(huán)狀烯烴（COC）、聚丙烯（PP）和高密度聚乙烯（HDPE））的表面改性。河南先途智能科技有限公司是一家專門生產(chǎn)等離子清洗機(jī)的環(huán)保公司。

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