等離子光氧一體機凈化設備是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。它具有高效率、運行成本低、設備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在95%以上。是目前市場上*佳的廢氣凈化設備。
2、適用范圍：等離子光解一體機凈化設備主要運用于油漆噴涂、造紙頁、制藥業、輪胎及橡膠生產廠、汽車生產、農藥生產以及煙草業等等多個領域的有毒有害氣體、異味和惡臭處理。涉及氣體物質多達900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烴類以及醛類等類別。
3、反應原理
當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。(在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子安全物質，或使有毒有害物質轉變成無毒無害或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。)
然后部分有機廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無毒無害無味氣體。采用高能C波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質分子結構，將高分子污染物質裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。在C波段激光刺激催化劑涂層產生活性，強化催化氧化作用。在分解過程中產生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有極強的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅菌的目的。
產品特點：
1、工藝簡潔、操作簡單,方便，無需專人看管，需要定期清洗等離子發生體。
2、節能：能耗低，運行費用低廉。
3、適應條件：在-60℃~+300℃的環境內均可正常運轉,特別是在潮濕,甚至空 |
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