多晶硅裝置中的設備、管線、精餾塔、槽、還原爐、氫化爐在制造、儲存、運輸和安裝過程中會產生大量的污物。這些污物主要有：油脂、扎制鱗片、氧化皮、泥沙、焊渣、焊藥、防銹油及表面涂層等。其中焊渣、焊藥的主要成分為鈦、錳、鉻、鐵等金屬氧化物，而切削油和防銹油及表面涂層則是一些高分子有機物。
  多晶硅設備進行化學清洗，不僅要進行高要求的除油脂處理，而且還要進行化學清洗和鈍化保護處理。隨著緩蝕技術的發展，金屬設備在化學清洗過程中的腐蝕損失已降到了很小，最終的鈍化處理將有助于減小設備運行中的腐蝕。另外，同酸洗時的腐蝕相比，軋制鱗片、氧化銹皮、泥沙、焊渣、防銹油及涂層等引起的設備運行事故更加具有危險性。由于化學清洗之后，得到了干凈的金屬表面，因而能更快的生產出合格的產品，工廠由此獲得的經濟效益將大大超過清洗的投資費用。目前，各種新建裝置尤其是高溫、高壓設備、大型設備和生產工藝要求比較高的設備和管線，再投產前都要進行化學清洗。不僅要清洗設備本體，而且要清洗那些與設備連接有可能把污物帶入的其他管道和設備。同樣，我們認為多晶硅裝置不僅要清洗工藝系統，其它附屬設備的化學清洗和鈍化處理對設備的運行安全和壽命意義重大，因此，我們建議所有的設備必須進行化學清洗。
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