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多功能納米洗紋繡

多功能納米洗紋繡_深圳市曼威光電技術有限公司_多功能納米洗紋繡

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公　司：深圳市曼威光電技術有限公司

發布時間：2017年07月14日

有效期：2018年01月10日

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吳小姐女士 (職員)

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電　　話： 0755-27168844 傳　　真：手　　機： 18598252711 地　　址：中國廣東深圳市深圳市寶安區沙井新二紅巷工業路98號二樓郵　　編：
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詳細說明

E光美容儀是一種光療技術，是在光子嫩膚的基礎上增加了射頻技術，由于傳統的IPL設備治療深度只能達到皮下4mm，治療深度可以達到皮下15mm，所以E光美容儀使得E光美容技術的運用范圍大副提高。因此E光能聯合光能和高頻電磁波的優勢互補，一次相當于光子的5—10倍,利用強脈沖光對皮膚進行一種帶有美容性質的治療.普通光能(激光/強光)在治療過程中，基于光的選擇性吸收原理，光能在穿透表皮時，會被表皮色素大量吸收，高能量或者深色皮膚治療時風險較大。另外由于大部分光能被反射和折射，真正到達并被靶組織充分吸收的能量僅占30～40%，所以，為了達到治療目的，就需要提高能量。但表皮色素對光能的大量吸收，限制了在治療時能量選擇不應過大，從而影響了單次治療的效果。由于E光在治療過程中，光能主要用于調整靶組織的阻抗值，引導RF(射頻)能量集中作用于靶組織。光能不是主要治療能量，從而避免了主要能量的反射和折射問題。基于RF(射頻)的特性，RF(射頻)在皮膚組織產生的熱效應取決于電流密度，電流密度的分布取決于皮膚組織的阻抗分布，組織溫度越高阻抗越低，電流密度越大，產生的熱效應越高；反之，組織溫度越低阻抗越高，電流密度越小，產生的熱效應越低。所以靶組織對起主要治療作用的RF(射頻)能量的吸收并不受表皮色素屏障的影響，RF(射頻)能量可以充分作用于靶組織，得到良好的治療效果

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