光催化除臭設備產品技術原理
一、光催化除臭設備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質分子鍵，裂解惡臭氣體物質如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態污染物質原子聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
三、惡臭氣體（工業廢氣）利用排風設備輸入到本UV光解凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同裂解、氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的．
五、設備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。 |
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