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求購多晶硅生產(chǎn)清洗技術(shù)要求蘇州列克勤多晶硅回收公司

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公　司：蘇州列克勤硅片回收公司

發(fā)布時間：2017年03月19日

有效期：2017年09月15日

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摘要關(guān)鍵詞：(株洲繁華網(wǎng)站建設(shè)公司優(yōu)化)蘇州列克勤硅片硅料回收公司：硅片回收，硅料回收，電池片回收，多晶硅回收，單晶硅回收，太陽能電池板回收。
油脂和水對多晶硅的產(chǎn)品有巨大影響。因此在多晶硅設(shè)備的清洗中，以脫脂工藝和干燥工藝為要點。主要清洗還原爐、氫化爐、CDI設(shè)備、合成車間、還原氫化車間、精餾系統(tǒng)、中間罐、管道等主要設(shè)備。并且為了保證脫脂和干燥的質(zhì)量，多晶硅設(shè)備清洗需要對單臺設(shè)備進行單臺清洗并驗收后，再進行安裝。
　　污垢主要對多晶硅影響因素
　　1、油脂：在多晶硅生產(chǎn)過程中，油分子對多晶硅的危害十分嚴重。實際證明，整個工藝系統(tǒng)幾PPM的油含量就可能造成多晶硅反應(yīng)速度減慢，產(chǎn)量降低，甚至硅反應(yīng)停止。因此，多晶硅設(shè)備的脫脂工藝尤為重要。蘇州太陽能硅片回收廠家
　　2、水分：水中含有大量的氯離子，氯離子對多晶硅的反應(yīng)十分敏感。設(shè)備及系統(tǒng)干燥工藝很關(guān)鍵。蘇州半導體硅片回收廠家
　　3、氯離子殘留：水和其他溶液在設(shè)備表面殘留的氯離子對多晶硅影響十分大。因此，在清洗后對設(shè)備進行純水沖洗工藝十分重要。半導體硅片回收廠家
4、氧化物、灰塵其他雜質(zhì)：其他污垢的存在，對多晶硅的生產(chǎn)影響也很大。因此，在設(shè)備清洗過程中，采用酸洗工藝對其他污垢進行清洗十分必要。

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