產品應用：為 MOCVD、PECVD、刻蝕機等配套設備，應用于半導體行業、太陽能電池行業廢氣處理
產品簡介：
◆處理方式： “濕法” 、“濕法 +燃燒”
◆處理原理：
濕法：多級水噴淋，使易溶于水或與水反應生成沉積的物質，已達到有毒腐蝕易燃易爆的氣體完整回收。
濕法 +燃燒：采用電加熱方式，有毒氣體等與氧氣燃燒反應生成無毒的物質及易溶于水的物質，排放物為無毒無害的氣體。
◆處理的氣體種類包括SiH4、NH3、HCL、PH3、B2H6(BH3)、H2、NF3、CHF3等。
◆控制方式：全自動/手動（可切換）
◆完善的報警、連鎖保護措施，如斷水報警、人工或自動切入外接水臨時處理以及根據用戶定制的不同安全處理要求以適應不同行業的實際工藝使用要求
◆氣路管件采用1/4”及3/8”不銹鋼管道，為耐腐蝕級316L（CARDINAL/SANDVIK）、燃燒室及噴淋室為304不銹鋼，閥門焊接頭為 SWAGELOK或相當、塑料管道閥門采用優質PVC材料，泵采用耐腐蝕水循環泵、連接口采用標準的KF連接及VCR、卡套等接口，管道采用自動軌道焊接
主要技術指標（濕法 +燃燒）
◆外形尺寸：750mmW×1000mmD×1800mmH；
◆供電：三相四線/380VAC/50HZ/6KW(MAX)+2KW；
◆處理能力：≥100SLM (AWG-200HW型為200SLM, AWG-400HW型為400SLM)
◆空氣：5-6Kg/cm2,1/4英寸管道 ,160LPM(MAX)
◆N2，5-7Kg/cm2，1/4英寸管道,50LPM(MAX)
◆設備的排風口：Φ100mm，1000LPM
◆進氣管道：2進口KF50,排氣管道為KF80（可應用戶的規格調整）
反應參考（燃燒）
序號 氣體
反應參考（實際復雜）
1
SiH4
SiH4 +2O2--------------------＞SiO2+2H2O
2
PH3
2PH3 +4O2--------------------＞P2O5+3H2O
3
AsH3
2AsH3 +4O2--------------------＞As2O5+3H2O
4
B2H6
B2H6 +4O2--------------------＞B2O5+3H2O
5
NH3
4NH3 +3O2 --------------------＞2N2+3H2O
6
SiF4
SiF4 +O2 --------------------＞SiO2+2F2
7
WF6
WF6 +3/2O2 --------------------＞WO3+3F2
8
C2F5Cl2
C2F5Cl2+4O2--------------------＞4CO2+5F2+2Cl2
9
SiH2Cl2
SiH2Cl2+3/2O2--------------------＞SiO2+ H2O +Cl2
10
H2
2H2+O2--------------------＞2H2O
11
C2F6
C2F6+O2 --------------------＞2CO2+3F2
12
SF6
SF6+O2--------------------＞SO2+3F2
13
BCl3
BCl3+5/2O2 --------------------＞B2O5+3Cl2
14
CHF3
CHF3+5/2O2--------------------＞2CO2+ H2O +3F2
15
SiCl4
SiCl4+O2 --------------------＞SiO2+ 2Cl2
16
CCl4
CCl4+O2--------------------＞CO2+2Cl2
17
BF3
BF35/2O2--------------------＞B2O5+3F2
18
C2ClF5
2C2ClF5+4O2 --------------------＞4CO2+ Cl2+5F2
19
NF3
NF3+O2--------------------＞NO2+F2(水反應或氧化) |
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