高精度MOCVD設備_研究用MOCVD原理
等離子輔助MOCVD技術
NMC-3000 PAMOCVD系統概述：
NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制，完全的安全互鎖。
目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。
NMC-3000 PAMOCVD系統應用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)
NMC-3000 PAMOCVD系統特點：
臺式系統
5個帶獨立冷卻槽的起泡器
加熱的氣體管路
950 °C樣品臺，2"晶圓片
3個氣體環
RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
工藝完成后N2自動沖洗
極限真空5x10-7Torr
260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
通過LabView軟件實現PC計算機全自動控制
菜單驅動，4級密碼訪問控制
完整的安全聯鎖
NMC-3000 PAMOCVD系統 Features：
Table Top System
ive Bubblers with Individual Cooling Baths
Heated Gas Lines
950 °C Platen, 2" Wafer
Three Gas Rings
RF Plasma Source with Shower Head Gas Distribution
N2 Flush after Process
5x 10-7 Torr Base Pressure
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