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點腐蝕 金屬表面的電化學不均勻性是導致點蝕的重要原因。金屬材料的表面或鈍化膜等保護層中常顯露出某些缺陷或薄弱點(如夾雜物、晶界、位錯等處)，這些地方容易形成點蝕核心。金屬浸入含有某些活化陰離子（特別是氯離子）的溶液中，只要腐蝕電位達到或超過點蝕電位（或稱擊穿電位），就能產生點蝕。這是由于鈍化膜在溶液中處于溶解以及可再度形成的動平衡狀態,而溶液中的活化陰離子(氯離子)會破壞這種平衡,導致金屬的局部表面形成微小蝕點，并發展為點蝕源。例如不銹鋼表面的硫化物夾雜的溶解，暴露出鋼的新鮮表面，就會形成點蝕源。
點蝕的發展是一個在閉塞區內的自催化過程。在有一定閉塞性的蝕孔內,溶解的金屬離子濃度大大增加,為保持電荷平衡，氯離子不斷遷入蝕孔，導致氯離子富集。高濃度的金屬氯化物水解，產生氫離子，由此造成蝕孔內的強酸性環境，又會進一步加速蝕孔內金屬的溶解和溶液氯離子濃度的增高和酸化。蝕孔內壁處于活化狀態（構成腐蝕原電池的陽極），而蝕孔外的金屬表面仍呈鈍態（構成陰極），由此形成了小陽極/大陰極的活化-鈍化電池體系，使點蝕急速發展。
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