高純氣體是由兩大類氣體組成的。一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種,其中:
電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);
有機氣體共65種,占總數的25%;
無機氣體共35種,占總數的13.4%;
鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;
同位素氣體共17種,占總數的6.8%。
本文專門介紹這260種單元高純特種氣體的用途。
1.氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2.氧氣-O2,>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫療氣；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。
3.氬氣-Ar,>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氫。
4.氫氣-H2,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學、冶金等工業中也有用。
5.氦氣-He,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。
6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、游泳池的衛生處理；制備許多化學產品。
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