羥基離子凈化裝置，也叫光譜氧化或者叫光氫離子化，普遍使用于中央空調(diào)、新風(fēng)系統(tǒng)中,是【我公司】使用的一種離子凈化技術(shù)。簡(jiǎn)單地說(shuō)，它是用高強(qiáng)度廣譜紫外線照射納米金屬化合物，二氧化鈦等而激發(fā)產(chǎn)生等離子體，包括過(guò)氧化氫、自由羥基、超氧離子及純態(tài)負(fù)離子等，這些具有高反應(yīng)活性的等離子體不僅能迅速有效破壞細(xì)菌、病毒和真菌等微生物的RNA、細(xì)胞膜等結(jié)構(gòu)從而達(dá)到殺菌的目的，還能高效地與流動(dòng)空氣中的化學(xué)氣體、TVOC、臭味分子等發(fā)生分解反應(yīng)，使之變成低毒或無(wú)毒的二氧化碳和水。
在凈化過(guò)程中可以選擇有臭氧型和無(wú)臭氧型。帶臭氧的我們將臭氧控制在安全水平0.04ppm以下，這也是美國(guó)食品及藥品監(jiān)督局的規(guī)定。所有的過(guò)氧化氫、羥基包括微量的臭氧都在氧化了污染物之后迅速還原為氧和氫，絕無(wú)任何化學(xué)殘留物質(zhì)。在使用羥基離子凈化裝置后，室內(nèi)空氣將變得森林、瀑布中的空氣一般清新。 |
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