電子行業(yè)專用超純水系統
IC電子制造應關注超純水水質，在超大規(guī)模IC的超純水水質中，優(yōu)先關注的水質指標為：電阻率、微粒、TOC(總有機硅)、硅、堿金屬、堿土金屬、重金屬、溶解氧、在超純水中，細菌的影響與TOC、微粒基本相同，在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不純物質或微粒，將導致柵氧化膜厚度不均，產品圖形發(fā)生缺陷，耐壓性變差，超純水中的微量有機物會使產品結晶不良，在IC芯片制造過程中，與硅片接觸的水所含離子越多，對產品良率影響就越大。電阻率反映了超純水中離子的含量，超純水的電阻率越高，其純度也就越高。一般來講，在25℃時，理論純水的電阻率是18.25MΩ•cm。
反滲透設備（R.O.）
反滲透（R.O.）又稱逆滲透，是當今*先進*經濟的水處理方法之一，它能有效地去除水中各類無機鹽(如鈣、美離子)、重金屬、化學物質、細菌、病毒。
其工作原理是利用膜的滲透原理，在壓力作用下，反于自然滲透使溶液中的溶劑與溶質分離開來。
由反滲透元件組成的設備稱為反滲透設備，目前已被廣泛應用于各種液體的分離與濃縮。
應用領域
 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；
 光電子產品、高科技精微產品；
 汽車、家電表面拋光處理；
 超純材料和超純化學試劑；
工藝流程;
原水→原水泵→機械功率器→活性炭過濾器→軟化水過濾器→保安過濾器→中間水箱→一級高壓泵→一級RO反滲透裝置→一級RO水箱→二級高壓泵→二級RO反滲透裝置→二級RO水箱→EDI增壓泵→EDI(CEDI)電去離子水系統→氮封水箱→核子級拋光混床→終端精密過濾器→UV紫外線殺菌→終端用水點。 |
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